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在半導(dǎo)體制造、光學(xué)鍍膜、新能源材料等精密工業(yè)領(lǐng)域，薄膜厚度的精準(zhǔn)控制直接決定產(chǎn)品性能。岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司憑借二十余年技術(shù)積淀，構(gòu)建起覆蓋機(jī)械接觸、光學(xué)干涉、光譜反射三大技術(shù)路徑的薄膜厚度測量體系，為行業(yè)提供從實驗室研發(fā)到生產(chǎn)線...
晶圓鍵合自動系統(tǒng)能接受4個以上的鍵合腔體，可配置整個的晶圓鍵合過程，包括陽極鍵合、熱壓鍵合、低溫等離子體鍵合以及尺寸達(dá)300毫米的晶圓鍵合。自動晶圓黏著鍵合技術(shù)確保堆疊式設(shè)備實現(xiàn)高產(chǎn)。晶圓鍵合自動系統(tǒng)是一種重要的加工技術(shù)，它使用一個中間層（典型的聚合體）來粘接兩個基層，被廣泛地運(yùn)用在先進(jìn)封裝中。該方法的主要優(yōu)勢在于實現(xiàn)低溫加工、使材料表面平整化和提高晶圓形貌的耐久性。在CMOS圖像傳感器的應(yīng)用方面，晶圓黏著鍵合技術(shù)會在圖像傳感器材料表面和晶圓的玻璃蓋片之間設(shè)置一層保護(hù)屏障。在...
近半個世紀(jì)以來，硅一直是世界科技繁榮的重點，芯片制造商幾乎都在壓榨它的生命。傳統(tǒng)上用于制造芯片的技術(shù)在2005年左右達(dá)到了極限。那時，芯片制造商將不得不尋求其它技術(shù)，將更多的晶體管塞到硅板上，而光刻機(jī)的出現(xiàn)很好幫助了芯片制造商解決這一煩惱，從而制造出更強(qiáng)大的芯片。下面就來詳細(xì)了解一下！光刻機(jī)必須把工程師繪制的電路板精確無誤的投到硅晶圓上，不允許有絲毫誤差，可見難度之高！將晶體管封裝到芯片上的傳統(tǒng)工藝被稱為“深紫外光刻”（DUV），這是一種類似攝影技術(shù)的技術(shù)，通過透鏡聚焦光線，...
紅外測厚儀對水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度有著十分重要的意義，它擔(dān)負(fù)著傳遞目標(biāo)信息的作用，直接影響檢測水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠等厚度的準(zhǔn)確度。今天，給大家講一下紅外測厚儀是怎么工作的？可應(yīng)用在哪些地方？一、典型應(yīng)用：測量水含量、涂布量、薄膜和熱熔膠的厚度。應(yīng)用在涂膠工序時，該設(shè)備可放置于涂膠池后、烘箱前，在線測量涂膠的厚度；應(yīng)用在造紙工序時，該設(shè)備可放置在烘箱后，在線測量干紙張的水含量。二、測量原理：利用紅外光穿透物質(zhì)時的吸收、反射、散射等效應(yīng)實現(xiàn)非接觸式測量薄膜類材...
光學(xué)輪廓儀是一款便捷的、精確的、實用的非接觸三維形貌測量系統(tǒng)。它建立在移相干涉測量（PSI）、白光垂直掃描干涉測量（VSI）和單色光垂直掃描干涉測量（CSI）)等技術(shù)的基礎(chǔ)上，以其納米級測量準(zhǔn)確度和重復(fù)性（穩(wěn)定性）定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應(yīng)用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽能電池技術(shù)等領(lǐng)域。在發(fā)展初期，光學(xué)輪廓儀主要采用傳統(tǒng)的光學(xué)成像技術(shù)，通過鏡頭和傳感器來獲取物體的輪廓信息。...
光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機(jī)，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開光科技束。如今的世界是一個信息社會，各種各樣的信息流在世界流動。而光刻機(jī)是保證制造承載信息的載體。在社會上擁有不可替代的作用。光刻機(jī)的技術(shù)原理：光刻機(jī)就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻機(jī)的作用，類似照相機(jī)照相。照相機(jī)拍攝...